【专利法】对于科研成果，企业应根据不同情况，选择专利保护或商业秘密保护，那么，专利保护的缺陷表现在哪几个方面呢？接下来就带您一起了解相关知识。

专利保护的缺陷表现

1、专利保护有期限性，发明创造包括三类，即发明、实用新型和外观设计。其中发明专利权的保护期限为20年，实用新型专利权和外观设计专利权的期限为10年。

这表明，一旦发明创造获得专利权后，最多只能获得20年的法律保护。超过这一期限，企业的发明和技术创新将被置于公众领域，无偿贡献给社会，任何企业均可免费使用该发明或技术创新。

2、专利保护破坏秘密性。因为申请专利必须将企业的发明创造公之于众，使该技术成为公知技术，这样，任何人都可以轻易获得专利技术，因此，专利技术的公开化，无疑给不法企业侵犯专利权提供了现实条件。

3、专利保护会使得企业失去竞争力。科研成果被授予专利后，其他企业可以在已获得专利的技术基础之上，再发展成新的发明创造，获得新的专利。尽管企业的专利仍然受到法律保护，但是同更新的技术相比已经处于劣势，企业将失去竞争力。

4、专利保护有代价。申请专利需要支付一定的费用，而获得专利后也要缴纳年费。